乐虎_鉴黑担保

乐虎_鉴黑担保亮相科技周
栏目:乐虎(hu)_鉴黑(hei)担保(bao) 发布时间:2021-05-26

乐虎(hu)_鉴黑担保亮相科技周

百年回望、崇尚科学、自立自强,2021年全国科技周近日开幕。北京乐虎_鉴黑担保材料入选2021年北京市顺义区科技活动周参展企业。

60ada7eb23622.png
乐(le)虎_鉴黑担保248nm光(guang)刻胶新品在本届科(ke)技周中亮相。顺义区委(wei)常委(wei)、副区长(zhang)徐晓俊、顺义区科(ke)委(wei)党组(zu)书记、主任袁日晨;科(ke)技企业代表、清(qing)华大学专家等出席启动仪(yi)式。
60ada8214085c.png
image.png

KMP DK3050是(shi)高活化能体(ti)系的(de)高分(fen)辨深(shen)紫(zi)外正性光(guang)刻胶,适用(yong)于(yu)12寸逻辑电(dian)路制程55nm节(jie)点的(de)关键(jian)离子注(zhu)入(ru)层,在光(guang)硅基底上有(you)良好(hao)的(de)工艺窗口(kou)和解析(xi)度,符(fu)合工艺需求的(de)垂直形貌(mao)。
启动仪式后,与会领导和嘉(jia)宾共同参观(guan)了主题展(zhan)厅。科技周(zhou)自5月(yue)24日开(kai)幕(mu)至(zhi)5月(yue)28日结束
60ada85484693.png

北(bei)京乐虎(hu)_鉴(jian)黑担保材料(liao)有限公(gong)司2010年(nian)承担了(le)国(guo)(guo)家02科(ke)技(ji)重大专项“248nm光(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)胶(jiao)研发与产(chan)业(ye)(ye)化(hua)”项目(mu)(mu),2014年(nian)完成(cheng)(cheng)产(chan)业(ye)(ye)化(hua)正(zheng)式形成(cheng)(cheng)销售(shou)。十(shi)(shi)(shi)年(nian)间,北(bei)京科(ke)华(hua)的248nm光(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)胶(jiao)产(chan)品(pin)从无到(dao)有,从1款(kuan)(kuan)非关键(jian)层(ceng)产(chan)品(pin)小批量(liang)销售(shou)发展至今,乐虎(hu)_鉴(jian)黑担保的KrF光(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)胶(jiao)产(chan)品(pin)应用涵盖了(le)AA/poly/metal关键(jian)层(ceng)以(yi)及TM/TV、Implant 、Contact /Hole等,目(mu)(mu)前(qian)已有7款(kuan)(kuan)产(chan)品(pin)在客户(hu)(hu)端(duan)形成(cheng)(cheng)批量(liang)销售(shou),进(jin)入中芯(xin)国(guo)(guo)际、上海华(hua)力微电子、长江存储科(ke)技(ji)、武汉新(xin)(xin)芯(xin)、上海华(hua)虹宏力等国(guo)(guo)内主流用户(hu)(hu)中批量(liang)使用;同时有5款(kuan)(kuan)新(xin)(xin)品(pin)在客户(hu)(hu)端(duan)验证。其中KMP DK1080荣(rong)获(huo)第(di)十(shi)(shi)(shi)二(er)(er)届(2017年(nian)度(du))中国(guo)(guo)半(ban)导体创新(xin)(xin)产(chan)品(pin)和技(ji)术奖(jiang);KMP DK1089荣(rong)获(huo)第(di)二(er)(er)十(shi)(shi)(shi)二(er)(er)届(2020年(nian)度(du))中国(guo)(guo)国(guo)(guo)际高新(xin)(xin)技(ji)术成(cheng)(cheng)果交易会优秀(xiu)产(chan)品(pin)奖(jiang),乐虎(hu)_鉴(jian)黑担保的248nm光(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)胶(jiao)已经进(jin)入了(le)快(kuai)速增长轨道。

60ada875cb445.png

KMP DK1081是低活化(hua)能(neng)体系的高分辨(bian)深紫外正性(xing)光(guang)刻胶,适用于(yu)8寸(cun)(cun)逻辑电路制程180nm节点的关键金(jin)属层(ceng)(ceng),同时(shi)适用于(yu)8寸(cun)(cun)逻辑130nm及12寸(cun)(cun)64层(ceng)(ceng)存储的离子注入层(ceng)(ceng),在光(guang)硅基底(di)及抗反(fan)射层(ceng)(ceng)基底(di)上都具(ju)有良好的工(gong)艺窗口和(he)解析(xi)度(du)。

60ada88736325.png

KMP DK2060是(shi)低活化能(neng)体(ti)系的高分(fen)辨深紫外正(zheng)性光(guang)刻胶,适(shi)用(yong)于8寸(cun)(cun)(cun)逻辑(ji)电路制程(cheng)150nm节点的关(guan)键孔洞层(ceng),同时适(shi)用(yong)于12寸(cun)(cun)(cun)逻辑(ji)55nm及12寸(cun)(cun)(cun)64层(ceng)存储的非关(guan)键孔洞层(ceng),在光(guang)硅基(ji)底(di)及抗(kang)反射层(ceng)基(ji)底(di)上都(dou)具有良好(hao)的工(gong)艺窗口和解析度。